메뉴 건너뛰기

XpressEngine

Introduction

인하대학교 화학공학과 전자재료공정 연구실 에서는,

1. 자성물질 및 MTJ stack 의 식각 및 특성 연구
 MRAM은 기존의 DRAM의 장점인 고집적, 고속의 읽고 쓰기등과 Flash 메모리의 장점인 전원이 꺼져도 데이터가 기억되는 비휘발성 특성을 갖춘 차세대 통합메모리로서 주목받고 있다. 메모리 소자의 제조에 있어서 여러가지 박막들의 증착도 중요하지만 이러한 박막들의 정교한 패터닝 및 식각공정의 개발은 더욱 더 중요하다. 특히 MRAM 소자의 중요부분인 MTJ stack에 대한 식각공정 개발은 매우 중요하다.
 따라서 본 연구실 에서는 고밀도 플라즈마를 이용한 반응성 이온 식각 장비를 이용하여, 고집적 비휘발성 메모리 소자의 제조를 위한 핵심요소인 자성물질 및 MTJ stack 을 효율적으로 식각하는 공정을 연구 및 개발하고 있다.

introduction 1.png 

2. 화합물 박막형 태양전지 제조 공정 개발
 에너지고갈시대를 맞이하여 태양광을 이용하는 태양전지의 개발은 신재생에너지 개발의 측면에서 매우 중요하다. 무한, 무료, 무공해의 천연자원인 태양광을 이용하는 태양전지는 차세대 신재생에너지원으로  크게 주목 받고있다. 여러가지 태양전지 중에서 기존의 실리콘 태양전지 외에 저비용 고효율의 차세대  태양전지의 개발이 필요한 실정이다. 그 후보 가운데서 Cu(In,Ga)Se2 (CIGS) 화합물 박막태양전지가 주목 받고 있으며 많은 연구가 진행되고 있다.

 본 연구실에서는 특히 광흡수층인 CIGS 박막의  제조에  있어서 새로운 증착방법을 개발하고 저비용의 간단한 방법으로 우수한 CIGS 박막을 증착하는 방법을 개발하고 있다.

introduction 2.png


Top of the Page

Electronic Materials Processing Laboratory(2E-244)
Department of Chemical Engineering, Inha University
100 Inha-ro, Nam-gu, Incheon, Korea, 402-751
TEL: 032-860-7473 FAX: 032-872-0959